静电纺丝是一种材料纤维制造工艺，在静电场的作用下，聚合物溶液克服表面张力形成喷射细流，最终落在接收装置上固化成纤维。静电纺丝与等离子体关系密切，细流在静电力作用下运动的过程可用磁流体方程描述，同时等离子体也可用于纤维改性处理。纳米纤维由于其表面积高，孔隙率大等优点，被广泛应用于环保、生物医学、能源动力等领域。
 
通过静电纺丝法制备TMO/C复合纳米纤维，在制备技术和材料性能方面特点：
 
（1）一维纳米纤维的优势在于较大的比表面积和良好的柔性，相互交缠之后形成三维结构的纳米纤维膜，具有优异的力学性能和电化学性能。
（2）将碳材料与TMO复合，一方面碳材料良好的导电性可以弥补TMO材料电导率的不足，另一方面稳定的结构还可以有效缓解TMO材料的体积膨胀。
（3）各种多孔、核壳、中空的结构可以增大电解液与电极材料的接触面积，增加活性位点和离子传输通道，提高反应效率。
（4）具有一定柔性的复合纳米纤维材料可以直接作为锂离子电池的负极材料，不需要额外添加黏结剂、导电剂等，减少成本且绿色环保。
 
多孔薄膜PLA纳米纤维500nm（厚度：100/200/500）um或1cm
多孔薄膜PLA纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PLGA纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PLGA纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PCL纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm
多孔薄膜PCL纳米纤维200nm（厚度：100/200/500）um或1cm
开放式孔构薄膜PLA纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm
开放式孔构薄膜PLA纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm
开放式孔构薄膜PLGA纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm
开放式孔构薄膜PLGA纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm
开放式孔构薄膜PCL纳米纤维500nm（厚度：200/500）um或1cm
开放式孔构薄膜PCL纳米纤维200nm（厚度：200/500）um或1cm
PS纳米纤维网格滤片150nm（厚度：600um）（直径3/8cm）（网格空隙：200um）
PS纳米纤维网格滤片300nm（厚度：1000um）（直径3/8cm）（网格空隙：400um）
PS纳米纤维薄膜网格滤片150nm（厚度：1cm）（网格空隙：200um）
PS纳米纤维薄膜网格滤片300nm（厚度：1cm）（网格空隙：400um）
PS纳米纤维内嵌网格滤片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）
PLGA纳米纤维网格膜片150nm（厚度：600um）（直径：3/8cm）（网格空隙：200um）
PLGA纳米纤维网格膜片300nm（厚度：1000um）（直径：3/8cm）（网格空隙：400um）
PLGA纳米纤维薄膜网格膜片150nm（网格空隙：200um）
PLGA纳米纤维薄膜网格膜片300nm（网格空隙：400um）
PLGA纳米纤维内嵌网格膜片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）
PLA纳米纤维网格膜片150nm（厚度：600um）（直径：3/8cm）（网格空隙：200um）
PLA纳米纤维网格膜片300nm（厚度：1000um）（直径：3/8cm）（网格空隙：400um）
PLA纳米纤维薄膜网格膜片150nm（网格空隙：200um）
PLA纳米纤维薄膜网格膜片300nm（网格空隙：400um）
PLA纳米纤维内嵌网格膜片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）
PCL纳米纤维网格膜片150nm（厚度：600um）（直径：3/8cm）（网格空隙：200um）
PCL纳米纤维网格膜片300nm（厚度：1000um）（直径：3/8cm）（网格空隙：400um）
PCL纳米纤维薄膜网格膜片150nm（网格空隙：200um）
PCL纳米纤维薄膜网格膜片300nm（网格空隙：400um）
PCL纳米纤维内嵌网格膜片150nm（厚度：600um）（孔数：6/12/24/48/96）（网格空隙：200um）
聚己内酯(PCL)-明胶纳米纤维膜
聚己内酯静电纺丝纤维膜
聚乙烯醇静电纺丝纤维膜
聚乙烯吡咯烷酮静电纺丝纤维膜
明胶静电纺丝纤维膜
聚氧化乙烯静电纺丝纤维膜
聚偏氟乙烯静电纺丝纤维膜
聚丙烯腈静电纺丝纤维膜
聚砜静电纺丝纤维膜
聚苯乙烯静电纺丝纤维膜
聚乙烯吡咯烷酮（PVP）/PEO（聚氧化乙烯）纤维膜
聚乳酸-乙醇酸/氧化锌纳米静电纺丝纤维膜
聚乳酸/纳米羟基磷灰石纳米纤维支架
磁性四氧化三铁聚己内酯(PCL) 静电纺丝纤维膜