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靶材是制备薄膜的主要材料之一，主要应用于集成电路、平板显示、太阳能电池、记录媒体、智能玻璃等，对材料纯度和稳定性要求高。溅射靶材的工作原理：溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体即为溅射靶材。靶材发展趋势是：高溅射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高纯金属。
溅射陶瓷靶材的制备:
常用的成型方法有干压成型、冷等静压成型等。冷等静压成型由于具有坯体密度高而且均匀，磨具制作方便，成本较低等优点，故而成为最常用的成型方法。陶瓷靶材的烧结常采用常压烧结、热压烧结及气氛烧结等方法。
陶瓷靶材的特性要求：
    （1）纯度：陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，纯度越高，溅射薄膜的均匀性和批量产品的质量的一致性越好。几年来，随着微电子产业的发展，对成膜面积的薄膜均匀性要求十分严格，其纯度必须大于4N。平面显示用的ITO靶材In2O3和Sn2O3的纯度都大于4N。
    （2）密度：为了减少陶瓷靶材的气孔，提高薄膜性能，要求溅射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密实，溅射颗粒的密度月底，放电现场就越弱，薄膜的性能也越好。
    （3）成分与结构均匀性：为保证溅射薄膜均匀，尤特在复杂的大面积镀膜应用中，必须做到靶材成分与结构均匀性好。
 以下是客户经常购买的金属溅射靶材产品目录
硫化铌(NbS)陶瓷溅射靶材
硫化钨(WS2)陶瓷溅射靶材
硫化锑(Sb2S3)陶瓷溅射靶材
硫化铈(Ce2S3)陶瓷溅射靶材
硫化钼(MoS2)陶瓷溅射靶材
硫化铟(In2S3)陶瓷溅射靶材
硫化锌(ZnS)陶瓷溅射靶材
氧化铝(Al2O3)陶瓷溅射靶材
四氧化三铁Fe3O4陶瓷溅射靶材
镍酸镧(LaNiO3)陶瓷溅射靶材
氧化钪(Sc2O3)陶瓷溅射靶材
氧化锌铝(AZO)陶瓷溅射靶材
氧化锡氟(FTO)陶瓷溅射靶材
铁酸镧(LaFeO3)陶瓷溅射靶材
钛酸锶(SrTiO3)陶瓷溅射靶材
氧化锡锑(ATO)陶瓷溅射靶材
氧化镓(Ga2O3)陶瓷溅射靶材
锰酸镧(LaMnO3)陶瓷溅射靶材
钌酸锶(SrRuO3)陶瓷溅射靶材
氧化铋(Bi2O3)陶瓷溅射靶材
氧化镓锌(GZO)陶瓷溅射靶材
氧化镁(MgO)陶瓷溅射靶材
锰酸锶(SrMnO3)陶瓷溅射靶材
钛酸铋(BiTiO3)陶瓷溅射靶材
氧化钆(Gd2O3)陶瓷溅射靶材
钪靶材Sc纯度:4N,4N5
钙靶材Ca纯度:2N5
铑靶材Rh纯度:3N5,4N
钯靶材Pd纯度:3N5
锇靶材Os纯度:3N,3N5
铼靶材Re纯度:3N5,4N
钌靶材Rua纯度:3N5
铱靶材Ir纯度:3N5
锗靶材Ge纯度:5N
铂靶材Pt纯度:3N5,4N,4N5
铒靶材Er纯度:2N5,3N,3N5
锰靶材Mn纯度:3N,3N5,4N
锌靶材Zn纯度:4N,4N5,5N
镁靶材Mg纯度:3N8,4N,5N
锂靶材Li纯度:3N
硅化钨(WSi2)靶材
硅化锆(ZrSi2)靶材
硅化钼(MoSi2)靶材
硅化镍(NiSi)靶材
硅化钛(TiSi2)靶材
硅化钒(VSi)靶材
温馨提示：靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的定制服务.
.2021.01.21
运输说明：
极低温产品：极低温产品运输过程中加装干冰运输。用干冰把产品包裹起来，再用泡沫盒密封，胶带层层粘住泡沫盒，放入瑞禧生物的箱子，然后交付给合作快递，安全快速高效放心的送至客户的手中，保证产品的性质稳定如一，为您的实验保驾护航。
低温产品：低温产品运输过程中加装冰袋运输。事先用冰袋把产品包裹起来，再使用泡沫盒密封，用胶带严实密封泡沫盒，再放入瑞禧生物的箱子（保温效果最少可以持续一周），然后交付给合作快递，安全快速高效放心的送至客户的手中，保证产品的性质稳定如一，为您的实验保驾护航。
常温产品：常温产品运输过程中无需加冰或者特殊包装。产品由公司库房人员快速配货，准确快速高效的快递保证产品快速送达您的手中。
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