技术参数
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产品归类 |
型号 |
平均粒径（um） |
纯度 |
比表面积 （m2/g） |
体积密度（g/cm3） |
晶型 |
颜色 |
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纳米级 |
CW-TaSi2-001 |
50nm |
99.5 |
36.23 |
5.16 |
立方 |
灰黑色 |
| 微纳级 | CW-TaSi2-002 | <1.0 | 99.5 | 25.12 | 5.81 | 立方 | 灰黑色 |
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超细级 |
CW-TaSi2-003 |
1-3um |
99.5 |
16.13 |
5.94 |
立方 |
灰黑色 |
| 颗粒级 | CW-TaSi2-005 | 325目 | 99.5 | 7.28 | 6.98 | 立方 | 灰 色 |
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加工定制 |
根据客户需求适当调整产品纯度及粒度 |
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主要特点
微纳米二硅化钽粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，比表面积大，表面活性高，耐高温，抗氧化，硬度高，是一种工程材料。TaSi2=237.12，密度9.14g/cm3，熔点2200℃。应用领域
二硅化钽粉主要用于发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层、高温结构材料及航空、航天等领域。
技术支持
可以提供微纳米硅化钽粉在航空航天、复合材料、高温结构件中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。
包装储存
本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。
